2026-1-21
筑波大学
次世代半導体MoS₂の革新的ウエハースケール成膜技術を開発 ―結晶成長の自己整合および自己停止メカニズムにより高移動度を達成―
https://www.tsukuba.ac.jp/journal/technology-materials/20260121190000.html
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